雙偏心半球閥密封面的研磨采用如圖1(a)所示的凸凹圓弧對(duì)偶研磨。為保證研磨質(zhì)量，研具的磨損應(yīng)均勻，工件表面上各點(diǎn)研磨行程應(yīng)一樣，工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡應(yīng)不斷變化，盡量遍及整個(gè)研具表面。通過模擬實(shí)驗(yàn)及實(shí)踐證明：研磨軌跡為正弦波軌跡，其幾何精度、表面質(zhì)量可以 達(dá)到較高的水平。正弦曲線軌跡的優(yōu)點(diǎn)是軌跡不易重復(fù)，磨削條紋能夠有規(guī)律地交錯(cuò)，砂粒尖刃容易鈍化，有利于減小表面粗糙度值。研磨軌跡能遍及球面表面，就能較好保持閥芯環(huán)狀球面的圓度。

要實(shí)現(xiàn)正弦波研磨軌跡，可以根據(jù)研具和工件的相對(duì)運(yùn)動(dòng)關(guān)系來實(shí)現(xiàn)。將研具和工件的相對(duì)運(yùn)動(dòng)分解為3個(gè)運(yùn)動(dòng)，即研具的轉(zhuǎn)動(dòng)n1、雙偏心半球閥閥芯的轉(zhuǎn)動(dòng)n2和閥芯的擺動(dòng)n3。為使研具在研磨中有較好的嵌砂性能，將研具放在工件的下面，如圖1(a)所示。當(dāng)閥芯按正弦波規(guī)律擺動(dòng)時(shí)，磨粒軌跡為類似于振動(dòng)衰減的正弦波，如圖1(b)所示。若閥芯只作正弦波規(guī)律往復(fù)擺動(dòng)，其磨削、磨損、去除材料量等產(chǎn)生嚴(yán)重不均勻，雙偏心半球閥閥芯的面輪廓度、表面粗糙度就很難達(dá)到均勻一致，不能滿足要求。為解決此問題，讓閥芯有一轉(zhuǎn)速n2，不斷變動(dòng)其自身位置，以保證整個(gè)球面的研磨、磨損等達(dá)到均勻一致，研磨軌跡如圖1(c)所示。

(a)研磨運(yùn)動(dòng)分析                                     (b)研磨運(yùn)動(dòng)軌跡                              (c)復(fù)合研磨軌跡

圖1雙偏心半球閥閥芯研磨運(yùn)動(dòng)原理

影響雙偏心半球閥閥芯研磨效率、研磨質(zhì)量的主要因素有研磨速度、研磨壓力以及磨料等。研磨速度增大能提高 研磨效率，但速度過高時(shí)，由于離心力作用，使研磨劑甩出工作區(qū)，研磨運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性降低，研具磨 損加快，從而降低研磨加工精度。在一定范圍內(nèi)增加研磨壓力可提高研磨效率，當(dāng)壓力大到一定值時(shí)，由于磨粒破碎及研磨接觸面積增加，實(shí)際接觸點(diǎn)的接觸壓力不成正比增加，研磨效率提高并不 明顯；另一方面，對(duì)于同樣的磨粒，研磨壓力減小對(duì)降低表面粗糙度值有利。為此，在進(jìn)行研磨裝 置設(shè)計(jì)時(shí)，除考慮了研磨正弦波軌跡的實(shí)現(xiàn)外，還應(yīng)注重對(duì)研磨速度和研磨壓力的控制。